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    小型实验设备(蒸发/磁控)

    产品特点

    技术参数

    设备型号ZZDS500 蒸发镀膜手套箱系统
    极限真空5×10-5Pa
    抽速大气~5×10-4Pa≤15min
    蒸发源6个,金属/有机数量任意搭配
    蒸发源类型蒸发舟or有机、金属束源炉
    样品尺寸210×210mm,向下兼容
    膜厚均匀性≤±3%
    均匀性判定(Tmax-Tmin)/(Tmax+Tmin)×100%
    蒸发距离450mm~550mm可调
    样品温控单加热模式:室温~300℃可调
    单水冷模式:10~25℃可调
    冷热双温模式:10~200℃可调

    技术参数

    设备型号ZCJS500 磁控溅射手套箱系统
    极限真空5×10-5Pa
    抽速大气~5×10-4Pa≤15min
    溅射靶3或4英寸靶,数量≤3
    溅射电源射频/中频脉冲/直流
    样品尺寸150×150mm,向下兼容
    膜厚均匀性≤±5%
    均匀性判定(Tmax-Tmin)/(Tmax+Tmin)×100%
    溅射距离100mm~±30mm可调
    样品温控单加热模式:室温~300℃可调
    冷热双温模式:10~200℃可调
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